檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "微影製程".ckeyword (精準) and year="106"
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由於極紫外光微影系統技術開發上仍有困難,無法立即取代現有生產線上ArF-193nm浸潤式微影系統微影製程生產,因此吸引許多研究者尋找改善方案,其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應…
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隨著現代積體電路的複雜度不斷增加與製程節點的演進,電路可製造性在現代微影(Lithography)製程中正遭遇許多困難。次級解析輔助特徵圖案(SRAF) 擺置與光學鄰近修正(OPC)等重要的解析度增…
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本研究為設計一共聚高分子材料以偵測人血中的鼠疫桿菌(Yersinia pestis),在檢測的同時屏除白細胞的干擾。基材為線/間距比率為1:1.5的圖案化光阻矽晶圓表面聚合高分子,使之呈現線寬為1、…